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四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于多種雜質(zhì)檢測(cè)

更新時(shí)間:2016-11-27      點(diǎn)擊次數(shù):3103
四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中痕量雜質(zhì)的檢測(cè),小檢測(cè)濃度可達(dá)5ppb。四氟化碳分析氦離子色譜儀配備高靈敏的氦離子化檢測(cè)器,采用*的中心切割技術(shù),進(jìn)樣閥均帶有吹掃保護(hù)氣路;整機(jī)采用多柱箱設(shè)計(jì),并配備進(jìn)樣壓力自動(dòng)校正系統(tǒng),不同底氣的樣品的進(jìn)樣量一致。
四氟化碳分析氦離子色譜儀適用于高純四氟化碳中H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO、CO2、SF6、C2F6、C3F8等痕量雜質(zhì)的檢測(cè),儀器配備高靈敏度的氦離子化(PDHID)檢測(cè)器,采用中心切割與反吹技術(shù),配置具有吹掃保護(hù)氣路的進(jìn)樣切換閥和進(jìn)口氦氣純化器,通過(guò)無(wú)死體積取樣或在線進(jìn)樣方式,一次性完成高純氨中雜質(zhì)的檢測(cè),檢測(cè)限達(dá)ppb級(jí),重復(fù)性RSD≤1%。
四氟化碳分析氦離子色譜儀系統(tǒng)配置:
(1)GC-9560-HG四氟化碳分析氦離子色譜儀
(2)氦離子化檢測(cè)器(PDHID)
(3)中心切割系統(tǒng)                                              
(4)多柱箱系統(tǒng)
(5)氦氣純化器                                                  
(6)標(biāo)準(zhǔn)氣體
(7)色譜柱                                                           
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